【存储器】这场DRAM技术困局谁来破?

编辑时间: 08-26    关键字:

据全球半导体观察不完全统计,由DRAM与NAND Flash所主导的传统存储市场规模已超过1600亿美元,其中最大的内存细分市场DRAM,正逼近当前技术材料和工艺使用的基本物理极限。

从1998年三星生产出最早的商用DDR SDRAM芯片,再到DDR1、DDR2、DDR3、DDR4的延续,然后是即将登台唱戏的DDR5和正在研发的DDR6,20多年时间里,DRAM技术一直在突破向前。

当下新的技术解决方案如EUV光刻、HBM、3D DRAM、无电容DRAM等逐渐浮出水面,DRAM进入到下一个发展阶段,其未来技术路线如何呢?


何为DRAM和DDR?

在探讨DRAM技术未来如何演变前,我们先对DRAM和DDR的概念进行理清。

在半导体存储器中,按照电源关断后数据能否被保存可分为ROM(Read Only Memory只读存储器,关闭电源仍可保留数据)和RAM(Random Access Memory随机存储器,关闭电源即丢失数据)。位于RAM之下,又可分为SRAM(静态随机存储器)、DRAM(动态随机存储器)以及新型RAM(基于新材料研制而成,尚未实现商业化)三大类。


△全球半导体观察根据公开信息整理

基于DRAM这一支后,又连续衍生了SDRAM(Synchronous DRAM,同步动态随机存储器)和DDR SDRAM(Double Data Rate SDRAM,双倍速率SDRAM,简称DDR),从历史沿革上,DDR可以说是SDRAM的升级版本。

按照不同的应用场景划分,固态技术协会(JEDEC)把DRAM分成标准DDR、LPDDR、GDDR三类,其中DDR主要应用于服务器和PC端,LPDDR主要应用于手机端和消费电子,GDDR的主要应用领域为图像处理领域。目前从它们发展情况,三者虽然存在一定的竞争,但是更多是互为借鉴成长。

今天我们讨论的焦点则侧重于DDR端。

DDR内存建立的初衷是为了加快内存的传输速度,从而弥补内存带宽上的不足,其关键的技术就是双倍数据速率以及预存取。业界数据显示,在一个时钟周期中,DDR可以完成SDR两个周期才能完成的任务,所以在理论上同速率的DDR内存与SDR内存相比,性能要超出一倍,这也是为何SDRAM在所处的那个时代,即便内存带宽已相当出色,却仍旧被DDR后来居上的原因。

从市场的角度看,DRAM则分为主流DRAM和利基型DRAM(其指从主流规格退役的DRAM产品,目前主要是DDR3及DDR2,或中低密度容量的产品,多属于客制化存储晶圆)。

在主流DRAM市场格局上,以三星、美光、SK海力士三分天下,目前具备DDR5/LPDDR5量产能力的也仅为上述三家。此外,中国台湾存储企业华邦及南亚科技,以及大陆存储企业长鑫存储的定位也在主流DRAM市场。

而利基型DRAM市场的玩家则相对分散,除了三星、美光、海力士之外(三星已在2021年Q4确定停产DDR2,同时三星及海力士计划逐步退出DDR3市场),还包含南亚科、华邦等公司。


主流DRAM技术演进,DDR1-DDR6

目前已推出的DDR1-DDR5是由固态技术协会(JEDEC)制定的产品标准。从DDR1到DDR5演变看,DDR的能耗越来越低,传输速度越来越快、存储容量也越来越大;而从制程工艺的进展来看,早前产品的更新时间大致在3到5年更新一代,在步入20nm以内的制程后,DDR在制程上的突破进展呈现放缓趋势。


△全球半导体观察根据公开信息整理

不同于半导体其他工艺直接使用确切数字表达制程的方法,存储行业近年通常使用1X、1Y、1Z、1α、1β、1γ之类的术语表达制程。对此,美光表示,这种改变很大程度上是因为确切的数字与性能没有很好的相关性。电路结构是三维的,使用线性的衡量方式并不适合。

业界认为,10nm~20nm系列制程至少包括六代,1X大约等同于19nm,1Y约等同于18nm,1Z大约为16-17nm,1α、1β、1γ则对应12—14nm(15nm以下)。

据悉,三星电子、SK海力士和美光已在2016~2017年期间进入1Xnm阶段,2018~2019年进入1Ynm阶段,2020年后进入1Znm阶段。目前,各大厂家继续向10nm逼近,目前最新的1αnm仍处于10+nm阶段。


△全球半导体观察根据公开信息整理

从过往历史看,每代DDR新标准发布后都需要经过2年左右的优化,才能实现性能的较为全面的稳定提升,而后实现对上一代产品的市场替代则可能需要3到5年的时间。业界数据显示,DDR3和DDR4都享有大约7年的生命周期。DDR4存储器标准于2012年发布,而其初代产品则于2014年入市,直到2016年才实现了市场份额的大幅提升。

对于最新一代的DDR5而言,其最新款产品产能还处于爬坡期,售价还较高,性能也未发展到最优。业界预测今年将是DDR5的预热年,而从明年开始,DDR5渗透率将大幅提升。并且由于DDR技术愈发成熟,DDR5的保质期或比DDR4长。

从推出DDR5标准至今已有两年时间,JEDEC最近也对DDR5标准 (JESD79-5A)进行了更新,包括密集型云和企业数据中心应用驱动的需求要求,为开发人员提供了两倍的性能和大大提高的能效。为了更高的密度和更高的性能,DDR5有望采用最先进的DRAM单元技术节点,例如D1z或D1a (D1α)代,这是10纳米级DRAM节点的第3代或第4代。DDR5内存包含多项创新和新的DIMM架构,可实现速度等级跳跃并支持未来扩展。

随着DDR5内存逐渐进入市场,三星又已在马不停蹄的开发下一代DDR6内存,并预计在2024年之前完成设计。在今年7月召开的研讨会上,三星证实将采用MSAP技术研发加强下一代DDR6内存的电路连接,并将适应DDR6内存中增加的层数。就规格而言,DDR6内存的速度将是现有DDR5内存的两倍,传输速度可达12800 Mbps(JEDEC),超频后的速度可超过17000 Mbps。


哪一条会是DRAM的未来演进之路?

由于现存的DRAM技术正不断逼近当前技术材料和工艺使用的基本物理极限,关于DDR6技术亦或是DRAM的未来技术探讨远不止于此,以下将对EUV光刻、HBM、3D DRAM、无电容DRAM技术进行说明。

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确信的一步,EUV光刻机的成熟运用

对于DRAM厂商而言,利用EUV光刻机迈入到10nm工艺路线已经成为确信的一步,目前三星、SK海力士和美光三大DRAM厂商已先后采纳EUV技术。

TrendForce集邦咨询分析师吴雅婷表示,使用EUV光刻技术是DRAM制程微缩的必经之路,具体有三大好处:

一是可以使DRAM制程进一步微缩至15nm以下;

二是通过更先进制程的递进,单颗颗粒的容量向上提升至16Gb或更高;

三是生产制程时间缩短,因为其要曝光的道数可以减少。

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