EDWARDS发布用于LED和化合物半导体制造的新型真空泵
编辑时间: 07-05 关键字:
7月3日,英国西萨塞克斯郡,克劳雷全球领先的高精真空设备和尾气处理系统制造商及相应增值服务供应商Edwards公司宣布推出新的iXH645H干泵,新设备经过优化,适用于LED制造中使用的MOCVD工艺,以及在栅堆叠(gate stack)中使用III-V材料的化合物半导体制造工艺。
iXH645H提供了非常高的气流量,并能够在最新一代LED制造设备所需的高负载下连续工作。iXH系列干泵采用先进的技术,最大限度地减少了维护需求,并实现正常运行时间最大化,有助于降低成本。
LED和化合物半导体制造工艺通常使用大流量氕气和高腐蚀性氨气。iXH645H业已进行设计优化以满足这些要求,具有出色的氢气抽空性能并采用耐腐蚀设计,包括一个保护泵密封物的专利氮气吹扫屏障(purge barrier)。XH645泵具有高温工作能力,有助于防止可能出现的磷化合物冷凝。
另外,iXH645H干泵先进的油润滑和密封技术省去了定期保养需求,同时其散热和电机设计可以防止出现过热、电机过载或工作区域受限等问题。iXH645H泵的优化温度控制系统确保泵在约30分钟启动时间内为工艺做好准备。
iXH645H提供了非常高的气流量,并能够在最新一代LED制造设备所需的高负载下连续工作。iXH系列干泵采用先进的技术,最大限度地减少了维护需求,并实现正常运行时间最大化,有助于降低成本。
LED和化合物半导体制造工艺通常使用大流量氕气和高腐蚀性氨气。iXH645H业已进行设计优化以满足这些要求,具有出色的氢气抽空性能并采用耐腐蚀设计,包括一个保护泵密封物的专利氮气吹扫屏障(purge barrier)。XH645泵具有高温工作能力,有助于防止可能出现的磷化合物冷凝。
另外,iXH645H干泵先进的油润滑和密封技术省去了定期保养需求,同时其散热和电机设计可以防止出现过热、电机过载或工作区域受限等问题。iXH645H泵的优化温度控制系统确保泵在约30分钟启动时间内为工艺做好准备。
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